PVD超硬涂层以其高硬度和耐磨特性而众所周知。通常这种膜层被沉积在刀具及耐磨部件上,其厚度范围在0.5 – 6 µm。

为控制这种膜层的内应力，这种涂层主要采用纳米多层结构，以避免因较厚的单层膜而容易出现剥落现象。

按照一个客户的要求，PVT公司开始着手开发一个工业化生产涂层工艺，用于沉积20微米厚的单层氮化钛。经过6个月的开发,一台PVT S2超硬涂层设备被制造出来，满足了客户的所有需求，这也特别归功于PDA*技术。

该系统沉积出的20微米厚TiN膜层具有极其良好结合力，出色的重复性公差仅为+/- 0.2微米(总涂层厚度的+ / - 1%)。此外，通过新设计定制的旋转夹具，沉积20微米厚膜层的时间可以从10.5小时减少到3个小时。

*PDA = Plasma Diffused Arc 等离子扩散电弧